1、1977年，我国最早的光刻机GK3型半自动光刻机诞生，这是一台接触式光刻机1978年，1445所在GK3的基础上开发了GK4，但还是没有摆脱接触式光刻机1980年，清华大学研制第四代分步式投影光刻机获得成功，光刻精度达到。

2、光刻机是法国人Nicephoreniepce尼埃普斯发明的，起初是Nicephoreniepce发现了一种能够刻在油纸上的印痕，当其出现在了玻璃片上后，经过一段时间的暴晒，透光的部分就会变得很硬，但是在不透光的部分可以用松香和植物油将其。

3、1990年代，n1995年，Cano着手300mm晶圆曝光机，推出EX3L和5步机ASMLFPA2500，193nm波长步进扫描曝光机光学光刻分辨率到达70nm的“极限2000年以来，在光学光刻技术努力突破分辨率“极限”的同时，NGL正在研究，包括极紫外线光刻。

4、上海微电子公司所研发的“SMEE光刻机”是一台性能堪比先进光刻机的制造设备，其光刻效果能够满足生产高质量的芯片这一研发的成功，也打破了美国市场对于中国光刻机的垄断，赢得了国内技术的独立与发展随着上海微电子的封装。

5、1822年法国人Nicephoreniepce发明了光刻机，在早期阶段其功能简单，而且使用的材料也是较为粗糙的，通过材料光照实验之后，Nicephoreniepce发现能够复制一种刻着在油纸上的印痕，而在其出现在玻璃片上后，经过一段时间的日晒，其。

6、法国根据查询php中文网显示，光刻机是法国人尼埃普斯于1822年发明的光刻机是一种半导体工业中常用的设备，用于将电路图案转移到半导体芯片上。

7、法国人Nicephore niepce尽管光刻机发明的时间较早，但并没有在各行业领域之中被使用，直到第2次世界大战时，该技术应用于印刷电路板，所使用的材料和早期发明时使用的材料也已经有了极大区别，在塑料板上通过铜线路制作。

8、三欧美国家对于中国的技术封锁，使得中国无法提升光刻机的技术虽然中国曾在光刻机领域取得了不小的优势，但是如果一直无法和国际接轨的话，那么中国在光刻机领域，也不可能取得太大的进步，再加上欧美国家对中国在光刻机。