中国光刻机能产几纳米最新成果展示 据近日消息，中国光刻机取得了重大突破，在芯片制造工艺中实现了更高层次的精度目前，中国光刻机已经实现了可以生产7纳米线宽的水平，并在分辨率和可制造性等方面取得了显著的进步这。

所以价格方面也很惊人，据说这架新一代光刻机售价高达4亿美元，目前这架新一代光刻机还在制造当中，预计会在2025年交付客户开始使用，这对于阿斯麦公司来说是一次重大的突破，同时对制造业也会引起不小的轰动阿斯麦公司制造。