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光刻机重大突破
光刻机重大突破(光刻机取得突破性进展)
我国科学家首次获得纳米级光雕刻三维结构,这一重大发现意义是在科学研究方面提高了一个层次,也更好地使雕刻技术更厉害;当然,就现阶段的状况看来,要想得到他们技术最顶尖的光刻机...
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2024-05-18
569阅读
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光刻机重大突破(光刻机重大突破交流纪要)
中国光刻机能产几纳米最新成果展示 据近日消息,中国光刻机取得了重大突破,在芯片制造工艺中实现了更高层次的精度目前,中国光刻机已经实现了可以生产7纳米线宽的水平,并在分辨率...
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2024-05-05
92阅读
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