28纳米将会是我们国产光刻机的最高工艺水平，严格来说，这个真的算不上高水平，它的前面还有147532，甚至是1nm但是28纳米是成熟工艺，生产成本低，只要不追求极致性能的情况下，这种制程的芯片，其性能也够用。

中芯国际最好的光刻机是28纳米光刻机中芯国际是中国领先的半导体制造公司之一，其光刻机技术处于行业领先地位28纳米光刻机是中芯国际目前最先进的光刻机，可以制造出高质量的28纳米芯片28纳米光刻机的精度非常高。

28纳米根据中国人民网显示，2023年中国已经成功研发出国产第一台28纳米nm光刻机，该光刻机预计在年底能够交付使用。

官网显示，目前最先进的光刻机是600系列，光刻机中最高的生产工艺可以达到90nm然而，与荷兰ASML公司拥有的EUV掩模对准器相比，它可以通过高达5纳米的工艺制造而且3nm工艺制作的芯片即将上市不过根据相关信息，预计中国首。

但是相比于荷兰ASML公司旗下的EUV光刻机，最高可以达到5纳米的工艺制作而且即将推出3纳米工艺制作的芯片但是据相关信息透露，预计我国第一台28纳米工艺的国产沉浸式光刻机即将交付尽管国产光刻机仍与ASML的EUV光刻机。

现在全世界能够生产光科技的国家只有三个分别是荷兰，日本和中国，能够生产最顶尖的5纳米euv光刻机的只有荷兰阿斯麦一家另外日本的尼康和佳能，还有中国的上海微电子厂，能够生产最好的光刻机，也就是只能达到28纳米。