1、1作用区别光刻胶是一种光敏混合液体，由光引发剂光刻胶树脂单体溶剂和其他添加剂组成光刻机是制造芯片的核心装备之一作用是将光线通过光学系统投射到晶圆表面，形成特定的图形2制造过程区别光刻胶的制造；1不同的作用光刻机主要用于将光线投射到晶圆表面来形成某种图形，而光刻胶则用作图形的刻蚀处理2不同的制造过程光刻机需要处理预热曝光等多个步骤，而光刻胶仅需要涂覆在晶圆表面并使用光线照射即可。

2、主要区别在于作用1光刻机的主要作用是对光刻胶进行曝光，将掩膜版上的精细图形印制到硅片上，从而实现电路图的转移和复制2光刻胶的主要作用是在光刻机曝光过程中，通过化学变化实现图形的转移和复制光刻胶的品质；作用原理不同光刻胶是一种化学物质，在光照下会发生化学反应，并在显影过程中将发生反应的部分去掉，形成图案而光刻机是一种机械设备，它的作用是将光刻胶涂覆到硅片上并进行曝光显影的过程使用场景不同光刻胶；用途和功能不同，制造工艺原理不同1用途和功能不同光刻胶是一种用于半导体制造中的关键材料，被用于制作微电子器件的图案，而光刻机是一种用于制作微细图案的设备2制造工艺原理不同光刻胶的制造工艺主要是化学。

3、光刻是通过光刻胶把电路印制在基板上1作用不同光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，而光刻机是制造芯片的核心装备2成分不同光刻胶是感光树脂增感剂和溶剂，而光刻机使用特殊光线将集成电路；不是一回事光刻胶是一种在半导体制造中用于光刻工艺的关键材料，主要用于制作集成电路微机电系统和显示器件等，光刻机则是一种用于将光刻胶涂覆到硅片上并进行曝光显影的设备所以光刻胶和光刻机是一回事。

4、上下游关系光刻机则利用特殊光线将集成电路映射到硅片的表面，要想在硅片表面的避免留下痕迹，这就需要在硅片表面涂上一层特殊的物质，这个物质就是光刻胶；1用途光刻机的主要作用是通过曝光光源和光刻胶进行图案转移，用于制造微细结构线路和图案等光刻胶是在光刻机上涂覆在硅片表面的一层材料，起到保护传导和反射等作用2原理光刻机利用光学系统将光源的光线；这两个的主要有区别是性质不同，应用场景及制作工艺不同，具体区别如下1性质光刻胶是一种光敏混合液体，由光引发剂光刻胶树脂单体溶剂和其他添加剂组成光刻机则是一种机械设备，它的作用是将光刻胶涂覆到。