1、国产芯片水平只能实现90纳米从芯片制造环节看，光刻机蚀刻机晶圆光刻胶等设备和材料占比很大其中光刻机设备，目前上海微电子是90纳米高端的KrF和ArF光刻胶更是几乎依赖进口，其中ArF光刻胶几乎为零国产因此。

2、国内能够研发光刻机的公司是上海微电子装备公司，当前该公司最先进的光刻机产品是600系列光刻机SSX600系列光刻机最高能够实现90nm工艺制程，荷兰的ASML的高端光刻机已经能够实现5nm工艺制程，两者之间的差距相当；第三，目前国产最先进的光刻机，应该是22nm根据媒体报道，在2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米请注意该报道的标题；如果说自主技术，其实我国的光刻机还停留在上海微电子SMEE的90nm水平，而事实上它却代表着国内最先进的光刻机水准而光刻机巨头ASML目前的水平是7nm EUV，事实上它也正朝着更先进的极紫外光刻机5nm工艺水平迈进了。

3、上海微电子公司所研发的“SMEE光刻机”是一台性能堪比先进光刻机的制造设备，其光刻效果能够满足生产高质量的芯片这一研发的成功，也打破了美国市场对于中国光刻机的垄断，赢得了国内技术的独立与发展随着上海微电子的封装；上海微电子的确在做可以实现28纳米制程的国产DUV光刻机只是是否通过验收，到底何时能交付，目前未知28纳米将会是我们国产光刻机的最高工艺水平，严格来说，这个真的算不上高水平，它的前面还有147532，甚至是。

4、光刻机国产排名第一的是上海微电子目前全球只有四家能够制造光刻机的公司，分别是荷兰阿斯麦尔日本尼康和佳能中国上海微电子这里说的光刻机指的是euvduv浸润式光刻机所以说，国内仅有一家能够制造光刻机的公司；上微光刻机是上市公司上海微电子装备有限公司的，股票简称华微电子，股票代码是芯原一年招多少硕士一年大约招六个硕士 芯原微电子上海股份有限公司芯原股份，SH是一家依托自主半导体IP，为客户提供平台化。

5、上海微电子技术公司已成功完成了22nm光刻机的研制工作从技术角度来看，虽然该设备在工艺制程上与国际顶尖大厂荷兰ASML相比还是有一定差距，但从近几年国内光刻机整体研制进程来看，这是我国在光刻机领域所取得的一大突破。