目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线DUV使用的是极紫外光刻技术，EUV使用的是深紫外光刻技术EUV为先进工艺芯片光刻的发展方向那么duv光刻机和euv光刻机区别是是什么呢；___中国半导体厂商因无法取得新款芯片制造设备，现在积极转向二手市场___日经中文网报导称，最近一年，二手半导体设备价格不断上涨，一年内平均上涨了近2成，其中又以光刻机等核心设备最抢手，二手价涨了3倍以上，日本。

5nm芯片无需光刻机中国科技公司已申请制造专利9月15日，一家中国科技公司申请的“5纳米芯片制造的直接蚀刻方法”专利正式公布该发明涉及芯片设计及制造这项发明的亮点在于，不用EUV光刻机或DUV光刻机，不需要光刻。

中国duv光刻机有几台

euv和duv相比，euv更先进EUV光刻技术与DUV光刻技术相比较，除了制造成品尺寸的重要不同之外，还考虑到了成本效率和可持续性等方面的因素因此，EUV光刻技术比DUV光刻技术更加先进和高端EUV技术在制造芯片的过程中。

就算是没有EUV光刻机，能卖到ASML公司生产的DUV光刻机也是不错的，这一光刻机可以生产14nm工艺，乃至28nm工艺的芯片，而这些芯片才是目前芯片市场上最紧缺的产品，有了光刻机以后，中芯国际就能扩大自己的产能了值得一。

据了解，仅仅是2022年的第一季度，我们就购买了20多台DUV光刻机， 中国市场成为了ASML公司在海外的最大客户 这美国当然看不下去了，就想进一步让ASML公司限制DUV光刻机出货给我们这相当于切断了ASML公司的赚钱财路。

中国duv光刻机量产

就像2023年第一季度，ASML向大陆交付了23台光刻机，超过了其他市场地区的出货量由此可见，ASML对大陆市场重视程度非常高由于EUV光刻机不能出货的缘故，所以ASML向大陆交付的光刻机都是DUV光刻机及其它型号的设备虽然。

3，中芯国际的193DUV光刻机目前做到N7完全够用4，在其他很多设备方面，比如刻蚀设备，缺陷检测设备，中芯国际拥有的设备的先进程度都是最新款的，和台积电N5的设备水平相当做不好芯片就像一个大厨光有菜刀没有厨艺一样。

科益虹源攻克的ArF浸没式激光器技术，可以把国产光刻机一举推向28nm以下的先进制程这是中国半导体产业发展的 历史 性节点采用ArF光源的浸没式DUV光刻机是目前全球使用最广泛的光刻机，可以完成45nm10nm制程的芯片制造。

全球能够制造光刻机的国家有三个，一共四家公司可以制造光刻机，荷兰阿斯麦尔日本尼康和佳能中国上海微电子其中唯一能制造高端euv光刻机的只有一家就是荷兰阿斯麦尔，其他三家是duv光刻机专利限制只是制约的一方面。