1、再联想到我国今年才有自主产权的28纳米光刻机，你就知道国产顶级光刻机与国外最先进水平的光刻机差距有多大 同样在摩尔定律没有失效的情况下，芯片性能几乎每年都有突破性的进展而芯片因为制程的进步，工艺越先进，单位面积内集成的晶体。

2、制造芯片的光刻机，其精度决定了芯片性能的上限最新消息显示，上海微电子装备计划于2021年交付首台国产28nm的immersion光刻机，即使这一技术的交付对比荷兰ASML公司全球最大的半导体设备制造商之一，光刻机制造领域全球领先有着近20年不足。

3、虽然我们也有国产光刻机，但是就算是 目前做得最好的上海微电子，目前也止步于90nm光刻机 上海微电子在日前宣布两年内可以下线28nm国产光刻机因此有不少网友表示，难道华为一个搞芯片设计的，两年时间就能突破光刻机。

4、下面来了解下国产光刻机和荷兰光刻机的差距一光刻机中国能造吗可以目前中国最牛的光刻机生产商就是上海微电子装备公司SMEE，它可以做到最精密的加工制程是90nm，相当于2004年最新款的intel奔腾四处理器的水平。

5、据悉国产DUV光刻机和28nm生产线会在2022年实现开始量产，届时我国的芯片制造水平或将迎来开拓性进展建晶圆厂只是第一步，后续也许还会有更多企业参与进来，共同推动我国芯片制造业发展进程，逐步摆脱供应链技术依赖。

6、8涂胶显影国产率1%，技术难度高，国产率很低，差距比较大9光刻机0%，虽然说目前国产光刻机国产化几乎为0，但是上海微电子已经能量产90nm工艺，28nm的光刻机已经取得进展但是光刻机是半导体产业链里技术最。

7、将其运用到声学滤波器光电调制器等光电芯片制备以及光计算通讯等领域时可以让这些行业拥有较强的发展，也能够让我国在各个领域通过对这项技术的运用超越世界各国，成为该项技术的领先国家此外能够在实施光刻胶膜时达到。

8、所以与其让华为从无到有打造光刻机，还不如将相关人才集中到上海微电子这样的国产光刻机企业，发挥出ldquo集中力量办大事rdquo的精神，花大力气缩短制造高精度光刻机的时间而事实上，这次华为所招聘的ldquo光刻机。

9、另外， 目前中科院已把光刻机航空轮胎和轴承钢等对外依赖度较大的关键材料或设备列入科研清单，未来将致力于攻克这些重点领域的技术 同时国家对国产操作系统也更加重视，并在去年定下了quot中国芯片自给率要在2025年达到70%。