能根据查询中国国家品牌网官网得知，中国是可以生产DUV光刻机的，能实现量产的是上海微电子90nm的光刻机；可以的目前中国最牛的光刻机生产商就是上海微电子装备公司，他可以做到最精密的加工制程是90nm，这个就是相当于2004年最新款的intel奔腾四处理器的水平，但是相比较目前的7nm着实有些不够看；华为有46台光刻机半导体产业已经成为了全球科技大战的核心战场在这场战场中，华为一直备受关注自从受到国际贸易制裁后，华为面临着巨大的压力，特别是在半导体供应链断裂的风险下2023年9月，郭台铭发出强烈的支持信号；中国光刻机历程 1964年中国科学院研制出65型接触式光刻机1970年代，中国科学院开始研制计算机辅助光刻掩膜工艺清华大学研制第四代分部式投影光刻机，并在1980年获得成功，光刻精度达到3微米，接近国际主流水平而那时，光。

国内唯一一台7nm光刻机在武汉弘芯中芯国际所采购的ASML光刻机设备，只能够实现14nm芯片量产，国内最先进的光刻机设备并不是中芯国际目前所使用的光刻机设备，而是武汉弘芯在2019年12月所购得的7nm光刻机，当时武汉弘；30台根据查询企业观察网显示，小米在中国有30台光刻机，光刻机和芯片制造有着直接关系，2023年小米宣布和ASML合作，订购了30台光刻机，每台光刻机都价值上亿元。

中国有自己的光刻机，由中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，这是世界上首台用紫外光实现了22nm分辨率的超分辨光刻装备，为纳米光学加工提供了全新的解决途径在光电所的；SMEE光刻机研发成功的意义上海微电子公司所研发的“SMEE光刻机”是一台性能堪比先进光刻机的制造设备，其光刻效果能够满足生产高质量的芯片这一研发的成功，也打破了美国市场对于中国光刻机的垄断，赢得了国内技术的独立与。

据悉，上海微电子有限公司在紫外光源的帮助之下，成功实现了22nm的突破，推动了国产光刻机的发展，向前迈进了一大步一旦技术成熟，意味着22nm光刻机将在中国问世，这将推动国产芯片的进一步发展，同时也给其他平版印刷厂家带来；中国光刻机能产几纳米最新成果展示 据近日消息，中国光刻机取得了重大突破，在芯片制造工艺中实现了更高层次的精度目前，中国光刻机已经实现了可以生产7纳米线宽的水平，并在分辨率和可制造性等方面取得了显著的进步这。