降低光刻机投影最小尺寸采用缩短曝光光源波长和增大投影物镜数值孔径两种方法1通过物镜组来实现，通过纯水把波长降低到134纳米2通过物镜组就可达到90纳米65纳米45纳米28纳米22纳米这个缩小4倍大概就是2228；半导体设备系列光刻机是半导体工业中的“皇冠”1原理 光刻是指光刻胶在特殊波长光线或者电子束的作用下发生化学变化，通过后续曝光显影刻蚀等工艺过程，将设计在掩膜版上的图形转移到衬底上的图形精细加工技术激。

光刻机的种类可分为接触式曝光接近式曝光投影式曝光光刻机可用于制造电子零件IC芯片和微型元件等光刻机工作原理 光刻机的工作原理是通过一系列的光源能量形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物；光刻机又名掩模对准曝光机曝光系统光刻系统等，是制造芯片的核心装备它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上光刻机的种类可分为接触式曝光接近式曝光投影式曝光光刻机。

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一套完整的光刻机包括多个组成系统，主要包括曝光系统自动对准系统整机软件系统等其中，曝光系统更是包含了照明系统和投影物镜在组成光科技的所有核心精密零件中，光学镜头光学光源双工作台又可以说是核心中的核心。

投影镜投影镜的作用是把中间镜放大或缩小的像或电子衍射花样进一步放大，并投影到荧光屏上，它和物镜一样，是一个短聚焦的强磁透镜投影的励磁电流是固定的，因为成像的电子束进入透镜时孔径角很小，因此它的。

ASML荷兰光刻机制造商阿斯麦传来新消息，关于新一代EUV极紫外线或者远紫外线光刻机，核心三大件已到货，分别包括物镜系统高 NA 机械投影光学器件，光源系统镜头以及新款的晶圆载物工作台目前，不清楚三大件来自哪。

一用途 光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种有用于生产芯片的光刻机有用于封装的光刻机还有用于LED制造领域的投影光刻机用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆。

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光刻机工作原理光刻机通过一系列的光源能量形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上，不同光刻机的成像比例不同，有51，也有41然后使用化学方法。

此技术在原来的193nm乾式光刻技术平台之上，因为此种技术的原理清晰及配合现有的光刻技术变动不大，获得了人们的极大赞赏浸没式光刻的原理 浸没式光刻技术需要在光刻机投影物镜最后一个透镜的下表面与矽片上的光刻胶之间。