极紫外光刻是一种使用极紫外波长的下一代光刻技术，其波长为135纳米，预计将于2020年得到广泛应用几乎所有的光学材料对135nm波长的极紫外光都有很强的吸收，因此，EUV光刻机的光学系统只有使用反光镜；1光刻机可以分为用于生产芯片用于封装和用于LED制造按照光源和发展前后，依次可分为紫外光源UV深紫外光源DUV极紫外光源EUV，光源的波长影光刻机的工艺光刻机可分为接触式光刻直写式光刻投影式。

光刻机工艺介绍 光刻机lithography又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上制造高精度的对准系统需要具有近乎完美。

光刻机是干嘛

2光刻机Mask Aligner 又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干涂底旋涂光刻胶软烘对准曝光后烘显影硬烘刻蚀。

光刻机品牌介绍 光刻机国外品牌主要以荷兰ASML镜头来自德国，日本Nikonintel曾经购买过Nikon的高端光刻机和日本Canon三大品牌为主其中荷兰公司ASML为下一代EUV光刻系列的唯一供应商，在半导体价值链中具有强大地位。

光刻机的英文是Stepper 1介绍 光刻机又叫掩模对准曝光机曝光系统光刻系统等，是制造芯片的核心装备光刻，也被称为光学平版刻法或紫外光刻，是一种在薄膜或基板也被称为“晶圆”上对零件图形化的精密加工工艺。

光刻机是干啥的

光刻机Mask Aligner 又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment SystemPhotolithography光刻 意思是用光来制作一个图形工艺在硅片表面匀胶，然后将掩模版。

光刻机的工作原理介绍光刻机的工作原理是通过一系列的光源能量形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图。