1、1 测量台和曝光台是光刻机中的关键组件，它们承载着硅片，确保工作台的稳定性和精确移动2 激光器作为光刻机的核心设备之一，负责提供光源，其性能直接影响光刻过程的质量3 光束矫正器的作用是校正激光束的入射方向。

2、是指在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程并不是单纯的激光，其曝光系统基本上使用的是复杂的紫外光源光刻机工作原理光刻机通过一系列的光源能量。

3、光刻机的原理是利用光刻机发出的光，通过具有图形的光罩，对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，使光罩上的图形复印到薄片上，从而让薄片具有电子线路图的作用光刻机又叫掩模对准曝光机曝光系统光。

4、1 光刻机的工作原理涉及精确控制光源能量和形状，确保光线透过掩模时，其图案精确传递至晶圆表面2 经过物镜补偿光学误差后，掩模上的线路图被缩小映射至晶圆上，这一过程对于芯片制造至关重要3 光刻技术相当于向空白。

5、1测量台曝光台是承载硅片的工作台2激光器也就是光源，光刻机核心设备之一3光束矫正器矫正光束入射方向，让激光束尽量平行4能量控制器控制最终照射到硅片上的能量，曝光不足或过足都会严重影响成像。

6、光刻机的核心原理是利用光源发射的光线，通过一个称为光罩的部件，该部件上刻画有电路图案，照射到涂有光刻胶的硅片上这种光刻胶在曝光后会发生变化，使得光罩上的图案能够转移到硅片上，从而在硅片上形成电路图案在。

7、光刻机的核心工作原理是利用光线透过具有特定图形的光罩，对涂有光刻胶的硅片进行曝光这一过程类似于照相机的拍照原理，不同的是，光刻机在硅片上形成的是电子线路图，而非简单的照片简而言之，光刻机相当于一个放大。

8、euv光刻机原理是接近或接触式光刻通过无限靠近，复制掩模板上的图案直写式光刻是将光束聚焦为一点，通过运动工件台或镜头扫描实现任意图形加工投影式光刻因其高效率无损伤的优点，是集成电路主流光刻技术光刻机Mask。

9、1光刻机制作芯片的过程，基本和“冲印照片”一样假设拍的是风景，胶片上会有曝光痕迹，先要在暗室里显影，让风景在胶片上显示出来然后在红光下通过放大机，把胶片上的风景投射到相纸上，让相纸曝光再通过相纸的显影。

10、1 测量台和曝光台是光刻机中负责承载和移动光敏硅片的工作平台2 激光器作为光刻机的核心部件之一，负责提供光源3 光束矫正器的作用是调整光束的入射方向，确保激光束尽可能平行4 能量控制器负责调节照射到硅片上。