1、3光刻胶产业链概况 产业链上游主要涉及溶剂树脂光敏剂等原材料供应商和光刻机显影机检测与测试等设备供应商从原材料市场来看，由于中国从事光刻胶原材料研发及生产的供应商较少，中国光刻胶原材料市场主要被；1根据电子发烧友网查询显示，光刻胶是光刻机研发的重要材料，光刻机就是利用特殊光线将集成电路映射到硅片的表面2光刻胶是用于保护硅片的，光刻机是用来制作芯片的，光刻胶的性能指标要求极高，感光的性能抗蚀性；用途和功能不同，制造工艺原理不同1用途和功能不同光刻胶是一种用于半导体制造中的关键材料，被用于制作微电子器件的图案，而光刻机是一种用于制作微细图案的设备2制造工艺原理不同光刻胶的制造工艺主要是化学；两者的区别如下光刻胶是一种特殊的光敏材料，用于在光刻过程中形成图案光刻胶接收到紫外线光照后会发生化学反应，形成可溶解或不溶解于特定溶剂的区域，从而形成所需的图案光刻机是用于将光刻胶图案转移到硅片或其他。

2、作用不一样光刻胶和光刻机的区别是作用不一样，光刻胶是光刻机研发的重要材料，光刻胶是用于保护硅片的，光刻机是用来制作芯片的光刻胶是一种有机化合物，光刻机是制造芯片的核心装备，采用类似照片冲印的技术，把；上下游关系光刻机则利用特殊光线将集成电路映射到硅片的表面，要想在硅片表面的避免留下痕迹，这就需要在硅片表面涂上一层特殊的物质，这个物质就是光刻胶。

3、光刻胶和光刻机在集成电路制造过程中各自扮演重要角色根据查询百度文库得知，光刻胶和光刻机在集成电路制造过程中各自扮演重要角色，光刻胶是一种特殊的材料，主要应用于硅片表面，而光刻机则利用特殊光线将集成电路“映射；有光刻胶是光刻机研发的重要材料，是微电子技术中微细图形加工的关键材料，光刻机利用特殊光线将集成电路映射到硅片表面，想要在硅片表面留下痕迹就需要在其表面涂上光刻胶光刻胶抗蚀性表面张力上都有极高的要求。

4、不是一回事光刻胶是一种在半导体制造中用于光刻工艺的关键材料，主要用于制作集成电路微机电系统和显示器件等，光刻机则是一种用于将光刻胶涂覆到硅片上并进行曝光显影的设备所以光刻胶和光刻机是一回事；光刻是通过光刻胶把电路印制在基板上1作用不同光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，而光刻机是制造芯片的核心装备2成分不同光刻胶是感光树脂增感剂和溶剂，而光刻机使用特殊光线将集成电路。