中国有自己的光刻机，由中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，这是世界上首台用紫外光实现了22nm分辨率的超分辨光刻装备，为纳米光学加工提供了全新的解决途径在光电所的努。

中国光刻机历程 1964年中国科学院研制出65型接触式光刻机1970年代，中国科学院开始研制计算机辅助光刻掩膜工艺清华大学研制第四代分部式投影光刻机，并在1980年获得成功，光刻精度达到3微米，接近国际主流水平而那时，光。

中国光刻机突破了我国清华之前实现了SSMB技术突破，一度被认为只是理论层面，应用到实际还需要很长时间，但谁也没有想到，2023年3月才打出第一道光束，项目已经立项开工建设了据网上消息显示，“稳态微聚束SSMB极紫。

28纳米根据中国人民网显示，2023年中国已经成功研发出国产第一台28纳米nm光刻机，该光刻机预计在年底能够交付使用。

中国成功研发出的“新型光刻机”能够精确地将电子图案投射到硅片上，保证了半导体芯片的制造精度和稳定性光刻机的分类 紫外光刻机是目前最常用的光刻机类型，它使用紫外线光源来照射光刻胶，通过光学镜头将光源中的图案。

中国有光刻机，位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售正在进行其他各系列产品的研发制作工作光刻机又名掩模对准曝光机曝光系统光刻系统等，是制造芯片的核心。

超分辨光刻机 2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨率达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片，荷兰的。

光刻机是半导体制造中关键的设备，用于制作微小尺寸的芯片中国自2000年代开始投资和发展半导体行业，并在制造工艺芯片设计等方面取得了显著进展中国企业在光刻机领域也有一些研发和生产能力，例如中微半导体华天科技等。

中国高端光刻机什么时候能研制出来一中国光刻机现在多少纳米2018年3月，上海微电子的90nm光刻机项目通过正式验收也就是说，我们的国产光刻机目前可以做到90纳米工艺之前有网友爆料，上海微电子将于2020年12月下线首。

突破光刻机需要不断探索钻研，攻克光刻机难题中国的企业在光刻机领域的研发能力也在不断提升例如，中微半导体公司自主研发的光刻机已经实现了量产，并成功应用于多个芯片制造企业此外，国内的其他企业也在积极开展相关。