1、我国的上海微电子有限公司研发和生产光刻机，但是差距有点儿大，华为目前没有研制自己的光刻机下文具体说一说 1我国的光刻机 ASML的高端光刻机为7nm光刻机，并且7nm EUV光刻机只有ASML可以生产，据说ASML已经准备生产5nm的光刻。

2、独立研发光刻机对我国意味着科技上打破西方国家的垄断，改变中国高新技术被国外封锁的局面，同时可以推动国家自主芯片的研发进展目前世界上光刻机研发，由荷兰美国日本这三个国家掌握技术，根本不会对外开放也不会对外公布。

3、28纳米根据中国人民网显示，2023年中国已经成功研发出国产第一台28纳米nm光刻机，该光刻机预计在年底能够交付使用。

4、因此，华为显然不会自己研发制造光刻机，这里面涉及的技术是系统工程，绝对不是一家厂商可以解决的 但是，华为在芯片领域有着自己的技术累积以及雄厚的资金实力，这些方面很大程度上可以帮助光刻机的研发，参与到整个光刻机研发体系中，进一步。

5、最关键的是，这些超级精密的仪器根据瓦森纳协定对中国是禁运的国产光刻机的“差距”目前国内技术领先的光刻机研制厂家是上海微电子装备有限公司，可以稳定生产90nm制造工艺的光刻机，相比ASML的7nm制程差距还是比较大。

6、显然，中科院研制成功的这台“超分辨光刻装备”并不能说明我国在市场主流的的光刻机研制方面已经达到了世界先进水平，那么现阶段我国的光刻机的真实水平又是怎样的呢且看以下对比。

7、面对这一局面，中国政府已经出台了一系列的政策，支持国内的半导体产业发展中国正在积极推进自主创新，加大投入力度，建设自主可控的芯片生态系统目前，中国的一些芯片制造企业也在积极研发EUV光刻机，以期实现国产化性能指标。

8、而航发的研制就会撞到流体力学理论的瓶颈但光刻机的研制，据我所知，至少在精密光学与机械加工这方面，没有已知的理论瓶颈，而且我国的工业基础还不错瓶颈反而在光刻部分，也就是说光刻机造出来，和光刻机好用完全是。

9、在北斗的研发过程中，400多家单位30多万科技人员，攻克了星间链路高精度原子钟等160多项关键核心技术，国产化研制500多种。