光刻机是非常复杂的机械，目前最厉害的光刻机生产商就是荷兰的ASML，他们现在已经能够生产刻出5nm线路的光刻机了光刻机的分类 光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动半自动全自动手动指的是对准的调节方式。

中芯国际获取会受其限制，中芯国际目前并未公开宣布拥有或使用EUV光刻机进行生产全球半导体行业的技术发展和国际贸易环境是动态变化的故实际情况会有所变动，光刻机若有最新的官方公告或新闻报道，应以最新信息为准。

11822年法国人Nicephore niepce发明了光刻机，在早期阶段其功能简单，而且使用的材料也是较为粗糙的，通过材料光照实验之后，Nicephore niepce发现能够复制一种刻着在油纸上的印痕，而在其出现在玻璃片上后，经过一段时间的。

短期之内就成为了众多电子设备领域中关键材料之一光刻机光刻机Mask Aligner 又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制。

LDI，已经实现最高200nm的量产先腾光电成立于2013年4月，已经实现最高200nm的量产，在2014国际半导体设备及材料展览会上，先腾光电亮出了完全自主知识产权的LED光刻机生产技术，震惊四座。