1、光刻机国产排名第一的是上海微电子目前全球只有四家能够制造光刻机的公司，分别是荷兰阿斯麦尔日本尼康和佳能中国上海微电子这里说的光刻机指的是euvduv浸润式光刻机所以说，国内仅有一家能够制造光刻机的公司；华为有没有研制自己的光刻机，可以参考中国目前唯一的光刻机玩家SMEE的研发历程上海微电子公司背靠国家，且拥有国内顶尖的科研机构予以支持，不缺钱不缺人的前提几十年只专注与研发光刻机这一件事下也仅仅只有90nm光刻样机可以投产使用。

2、对于OPPO公司具体拥有多少台光刻机，无法提供确切的数字，因为这属于公司的内部信息，不会公开透露光刻机市场的供应和价格情况也会影响各公司持有光刻机的数量，因此具体的数量可能会有所变化不过，根据公开报道，OPPO在；1965年，我国的第1台光刻机是从外国进口的，直到现在为止全国只有两个国家拥有光刻机的高科技手段特别是荷兰的光刻机技术在全球是遥遥领先的，但由于荷兰受到美国的影响，并不愿意把光刻机的相关技术和设备出口给中国；478台截止到2023年2月23日，有机构统计了全球前道光刻机的销售情况，一共是478台光刻机是制造芯片的核心装备，采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

3、中国有自己的光刻机，由中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，这是世界上首台用紫外光实现了22nm分辨率的超分辨光刻装备，为纳米光学加工提供了全新的解决途径在光电所的；相比之下，国内光刻机厂商则显得非常寒酸上海微电子装备集团股份有限光刻机主要用于广泛应用于集成电路前道先进封装FPDMEMSLED功率器件等制造领域，2018年出货大概在5060台之间营业收入未公布，政府是有大量。

4、有的在2020年的业绩说明会上表示，共花费约1亿元购买了三台光刻机，光刻机型号为ASML1400光刻机MaskAligner又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备它采用类似照片冲印的技术，把掩膜；SMEE光刻机研发成功的意义上海微电子公司所研发的“SMEE光刻机”是一台性能堪比先进光刻机的制造设备，其光刻效果能够满足生产高质量的芯片这一研发的成功，也打破了美国市场对于中国光刻机的垄断，赢得了国内技术的独立与。

5、1965年中国科学院研制出65型接触式光刻机1970年代，中国科学院开始研制计算机辅助光刻掩模工艺1972年，武汉无线电元件三厂编写光刻掩模版的制造1977年，我国最早的光刻机GK3型半自动光刻机诞生，这是一台接触式。