1、大家好，我是老曹 荷兰出口DUV光刻机无需申请，可直接给国内供货从傲慢说就算给全套图纸都造不出光刻机，到如今再度表态，从荷兰购买DUV光刻机无需申请，这一刻来的太过神奇，而关于荷兰的态度，不少网友持谨慎态度。

2、在加之中国很多技术是先用于军事方面，所以我就在想中国肯定在军事方面已经拥有了65甚至28纳米的光刻机技术只是还没有向民用方面转用1华为需要75nm EUV，DUV用处不大 2这个光刻机肯定签订了附加条款，不能给中国。

3、我们中国在今年成为了ASML公司DUV光刻机的最大客户按购买金额排名第一，在ASML公司62台的销售总额中占比34%，比去年的占比22%高出了12个百分点，比今年排名第二的韩国高出5个百分点，比排名倒数第二和倒数第一的日本。

4、咱们都知道 ，全球半导体产业基本都集中于 中美日韩欧 等国 ， 平常几乎听不到有关毛熊在半导体方面的消息 ，但是没消息并不是因为低调，主要是其国内半导体产业太薄弱，薄弱到什么程度呢国内连DUV光刻机都没有，没有。

5、摘要光刻机顾名思义就是“用光来雕刻的机器”，是芯片产业中宝贵且技术难度最大的机器光刻机的种类有哪些光刻机又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，有接触式曝光接近式曝光投影式曝光等光刻机光。

6、目前国产水平在28纳米制程左右，通过处理器内核架构的持续创新，实现在同样制程情况下，每一代处理器性能提升30%以上，并借助国产DUV光刻机的发展，性能再提升50%以上，等到国产EUV光刻机进入量产，7纳米和5纳米制程也就可以。

7、193nm指的激光的波长，该类激光属于不可见光，处于深紫外波段，故又称为深紫外光刻机DUVL。

8、当前全球能够制造EUV光刻机的企业只有荷兰ASML一家企业，日本的佳能尼康和中国上海微电子仅能制造DUV光刻机荷兰ASML公司的EUV光刻机采用的是美国研发提供的135nm极紫外光源为工作波长的投影光刻技术，中国DUV光刻机使用。

9、极紫光刻机EUV，135纳米波长光源，深紫光刻机DUV，193纳米波长光源。