当前，中国也有了自己制造的光刻机，但是和国外龙头技术水平差距很大上海微电子装备股份有限公司SMEE通过积极研发已实现 90nm 节点光刻机的量产，使用ArF光源，可满足90nm及以上制程国产光刻机正向下一个技术节点寻求。

差距最大的是光刻机目前ASML最先进的EUV光刻机，即将投入三星台积电的7纳米工艺，而国内上海微电子的光刻机，仍停留在90纳米量产的水平 材料方面，日本是全球领先者反观中国，硅晶圆几乎是空白，8英寸国产率不足10%，12英寸依赖。

对于景嘉微的发展，让我们拭目以待，如果对于投资方面想不明白，你可以参考目前的市场氛围如果光刻机CPU的龙头公司如果上市，市值要多少，这样一想就豁然开朗了扬杰 科技 国内功率器件龙头公司 公司 汽车 电子。

芯片制造六大设备扩散炉刻蚀机离子注入设备薄膜沉积设备抛光机和清洗剂已经达到了世界主流水平，其中部分刻蚀机种类更是达到了5nm，处于世界第一梯队，最头疼的就要属光刻机了，中国光刻机的主要攻坚工作在上海微电子。