38nm根据查询科技指南官网得知，ASML的TWINSCANNXT2000i型号是最先进的DUV浸润式光刻机之一，ASMLNXT2000i+是一款采用128nmArF光源NA135的高端光刻机，具有非常高的分辨率和精度，分辨率达到38nm采用了先进的光学；光刻机国产排名第一的是上海微电子目前全球只有四家能够制造光刻机的公司，分别是荷兰阿斯麦尔日本尼康和佳能中国上海微电子这里说的光刻机指的是euvduv浸润式光刻机所以说，国内仅有一家能够制造光刻机的公司。

7纳米根据中国科技网查询显示，2050i光刻机是阿斯麦公司生产的一款深紫外线光刻系统，可以7纳米，是一款高效的双级浸润式光刻工具，专为在先进节点批量生产300毫米晶圆而设计，每小时可生产295片晶圆；上海微电子下一代28nm工艺节点的浸润式光刻机可以在明年完成量产交货，这意味着国产光刻机设备即将会掀起一股中国替代潮，已经取得了重大技术突破的上海微电子，未来的发展潜力无限上海微电子装备有限公司坐落于张江高科技园区。

我国光刻机发展还是不错的2020年，“就算给你完整图纸，你也造不出来光刻机”2022年1月，“中国不太可能独立研制出顶级光刻技术，但也不是说绝对不行因为我知道物理定律在中国和这里是一样的，永远不要说永远；最高端的光刻机一台能卖一亿美元，并且还得排队购买，即便了下单一般21个月后才能供货 全球高端光刻机来自荷兰ASML，中文叫阿斯麦，这家全球最顶级的光刻机制造商目前占全球高端高光刻机90%以上的市场份额，也就是说ASML公司处于绝对。

浸润式光刻机的工作原理

世界最高端的光刻机来自荷兰目前世界上最好的光刻机不是来自美国，韩国，英国日本等这些芯片强国，而是来自荷兰的阿斯麦尔阿斯麦尔因为押宝台积电林本坚提出的浸润式显影技术，让光源技术突破极限，这个坚持给阿斯麦尔带来了。

于是走投无门的台积电便找到了荷兰的ASML公司合作，经过不懈的研究与实验，最终联合推出了全球第一台浸润式光刻机至此，荷兰ASML公司名声鹊起，而这也加速了日本半导体产业的没落台积电究竟有多厉害现时台积电的市值在所有。

浸润式光刻机英文

据说可以做到5纳米，3纳米正在研发中补充 除尼康外，ASML也是很不错的凭借着台积电的“浸入式光刻技术”方案，ASML成功推出全球首台浸润式微影机，将193mm的光源波长一举缩短至132nm而彼时尼康推出的最新光刻机。

1N7节点台积电的7nm工艺分为第一代7nm工艺N7第二代7nm工艺N7P7nm EUVN7+其中，N7和N7P使用的是DUV光刻，为了用DUV制作7nm工艺，除了使用沉浸式光刻外193nm波长的浸润式光刻机，通过水的。