辐射指的是由场源发出的电磁能量中一部分脱离场源向远处传播，而后不再返回场源的现象辐射分为电离辐射和非电离辐射，光刻机的紫外光源为非电离辐射紫外辐射是一种非照明用的辐射源紫外辐射的波长范围为10纳米至400。

波兰不生产光刻机，生产光刻机的是荷兰全球唯一能制造高端euv光刻机的是荷兰阿斯麦尔公司，euv光刻机是采用135纳米极紫外光光源，为第五代光刻机，与第四代光刻机光源的193纳米深紫外光光源，技术上提升非常巨大，该。

芯片生产的工具就是紫外光刻机，是大规模集成电路生产的核心设备，对芯片技术有着决定性的影响小于5 nm的芯片只能由EUV光刻机生产那么euv光刻机原理是什么呢EUV光刻机的原理是接近或接触光刻，通过无限接近，将图案。

3纳米根据查询百度百科信息显示，截止2023年10月18日最顶尖的光刻机是ASML的EUV光刻机，其能够制造3纳米的芯片，在ASML的规划中，到2024年或2025年会交付全新一代的HighNA极紫外光刻机。

第三代为扫描投影式光刻机，光源改进为248nm的KrF氟化氪准分子深紫外光源，实现了跨越式发展，将最小工艺推进至150250nm第四代为步进式投影式光刻机，采用193nm波长的ArF氟化氩准分子激光光源，可实现制程推进到了65。