中国有自己的光刻机，由中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，这是世界上首台用紫外光实现了22nm分辨率的超分辨光刻装备，为纳米光学加工提供了全新的解决途径在光电所的努。

法国根据查询php中文网显示，光刻机是法国人尼埃普斯于1822年发明的光刻机是一种半导体工业中常用的设备，用于将电路图案转移到半导体芯片上。

早期的光刻机出现在20世纪60年代，当时的研究人员发现可以使用光来制作微型电路和微机电系统但由于当时的技术限制，这些早期的光刻机在分辨率速度和精度等方面存在一些困难在20世纪70年代和80年代，随着光学和电子学等。

1985年，机电部45所研制出了分步光刻机样机，通过电子部技术鉴定，认为达到美国4800DSW的水平这应当是中国第一台分步投影式光刻机，中国在分步光刻机上与国外的差距不超过7年但是很可惜，光刻机研发至此为止，中国开始。

是的，华为已经研发出光刻机了华为和上海微电子共同研发的EUV光刻机预计将于今年年底之前验收，并在明年交付商用华为光刻机，是由华为技术有限公司研发的一种先进的光刻机，可以用来制作高精度的精细的图形和图标从。

看到非官方消息，华为和中科院合作，研发出了8nm光刻机下面分析消息的可信度和技术可能性 一芯片制造流程简介 先大概解释一下芯片制造过程，以便大家理解下面的技术姓内容了解这个流程的话可以直接跳到二阅读 这里略过和主题无。

光刻机的研发本来就是集光学，电子，机械，软件，算法，物理，微电子等多学科为一体的，大部分理工科都可以在这个学科中找到对应的职位先进光刻机荷兰ASML一家独大，在中国的研发也比较少上海和深圳有，但偏重软件方向。

11822年法国人Nicephore niepce发明了光刻机，在早期阶段其功能简单，而且使用的材料也是较为粗糙的，通过材料光照实验之后，Nicephore niepce发现能够复制一种刻着在油纸上的印痕，而在其出现在玻璃片上后，经过一段时间的。