SMEE自“十五”起，先后承担了多个“国家IC前道光刻机研制专项任务”在专项技术的辐射下，SMEE根据半导体产业泛半导体产业和信息技术发展趋势与市场需求全面布局，开发了一系列高端装备，是国内具备制造多领域多品种产线；目前我国唯一能生产光刻机的公司是上海微电子SMEE，占据了中国80%的市场份额但即便是中国最先进的光刻机厂商，也仅仅是能90nm的光刻机而这个牛逼的阿斯麦ASML公司，已经可以生产7nm，甚至是5nm的EUV光刻机了，差距真不是一代两；能制造高端光刻机的只有荷兰ASML镜头来自德国，日本Nikonintel曾经购买过Nikon的高端光刻机和日本Canon三大品牌为主高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有7000万美金的光刻机高端光刻机堪称现代光学工业之。

不知道大家还记不记得，前段时间美国有一位专家还在嘲讽中国造不出光刻机，所以我们就不能自己生产芯片，但美国专家的这番话很快就被中国的实际行动给打脸了只因我们推出了首台国产SMEE光刻机，虽然工艺只有65nm，但却能。

光刻机Mask Aligner 又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment SystemPhotolithography光刻 意思是用光来制作一个图形工艺在硅片表面匀胶，然后将掩模版；该系列光刻机不仅可用于基板尺寸为200mm × 200mm的工艺研发线，也可用于基板尺寸为G25370mm × 470mm和G45730mm × 920mm的AMOLED显示屏量产线硅片边缘曝光机系列芯片级封装工艺应用SMEE开发的硅片。

光刻机是芯片制造的关键设备，不光华为在研发，像SMEE合肥芯硕半导体有限公司先腾光电 科技 有限公司无锡影速半导体 科技 有限公司等一些企业，在光刻机上衣和有自己的成果，这些公式只是在低端市场占比的，高端的就是中科院光电技术研究。

高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造国外品牌主要以荷兰ASML镜头来自德国，日本Nikonintel曾经购买过Nikon的高端光刻机和日本Canon三大品牌为主位于我国上海的SMEE已；另外ASML这家公司的镜片技术十分高，有着上百年的技术积累，并且它还是采用德国美国提供的多种技术，虽说是一家荷兰公司，但它背后有着整个欧美顶端科技的支持如今中国在光刻机这一领域依旧是很大的短板，这对。