2非接触式光刻机 非接触式光刻机是近年来发展起来的一种新型光刻机，它的曝光方式是通过光学透镜将掩模上的图案投射到硅片上这种光刻机的优点是曝光速度快，且可以进行多层曝光，但缺点是曝光精度稍低3紫外线光。

ASML的9纳米光刻机通过使用极紫外辐射来创造更准确的图案这种技术可以实现与传统刻蚀技术相比尺寸更小，应用更广泛的图案ASML的9纳米光刻机是目前市场上速度最快，最准确的光刻机 该公司已与多家大型芯片制造商如Intel。

光刻机主要用于半导体芯片的生产，利用光学投影技术把电路图案投影到硅片上进行照射，从而在硅片上形成显影图样光刻机的主要作用是在制造半导体芯片时进行微缩制程，从而实现高集成度和高性能的芯片光刻机的运算速度快，可靠。