2非接触式光刻机 非接触式光刻机是近年来发展起来的一种新型光刻机，它的曝光方式是通过光学透镜将掩模上的图案投射到硅片上这种光刻机的优点是曝光速度快，且可以进行多层曝光，但...

#昂贵且技术难度大光刻机是芯片生产中最昂贵也是技术难度最大的设备，因为其决定了一块芯片的整体框架与功能#快速生产高精度芯片其实生产高精度芯片并不难，只是生产速度太慢，而光...