且不说对方是不是小看了中国制造，从侧面也反映出了光刻机的制作难度之大因为现在还没有一个国家可以独立的制造出顶级的光刻机，就算是现在行业领先的ASML公司制造出来的光刻机，也是集合了十几个国家的顶尖技术一台；法国人Nicephore niepce尽管光刻机发明的时间较早，但并没有在各行业领域之中被使用，直到第2次世界大战时，该技术应用于印刷电路板，所使用的材料和早期发明时使用的材料也已经有了极大区别，在塑料板上通过铜线路制作；国际上较先进的集成电路生产线是1微米线，即光刻的分辨线宽为1微米日本两家公司成功地应用加速器所产生的同步辐射X射线进行投影式光刻，制成了线宽为01微米的微细布线，使光刻技术达到新的水平。

光刻机的种类 1接触式曝光Contact Printing掩膜板直接与光刻胶层接触曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当，设备简单接触式，根据施加力量的方式不同又分为软接触，硬接触和真空接触2接近式曝光。

根据不同的检测控制对象，可以分为以下几种a颗粒控片Particle MC用于芯片上微小颗粒的监控，使用前其颗粒数应小于10颗b卡盘颗粒控片Chuck Particle MC测试光刻机上的卡盘平坦度的专用芯片，其平坦度要求非常高c焦距控；光刻机是非常复杂的机械，目前最厉害的光刻机生产商就是荷兰的ASML，他们现在已经能够生产刻出5nm线路的光刻机了光刻机的分类 光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动半自动全自动手动指的是对准的调节方式；光刻机发出的光用于通过带有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光光刻电阻的特性在看到光后会发生变化，从而使掩模中的图形可以复制到薄片上，使薄片具有电子电路图的功能这是光刻的功能，类似于照相机摄影相机拍摄的照片。

所以，以前中国的EUV光刻技术不是没有实现，而是技术水平不达标，用于批量生产光刻机效率和良率无法和ASML的产品竞争还有视场小的问题，制造不了大芯片，略过不提 但是这样凑合出来的只具有较低生产效率和良率的光刻机能解决华为没有。

1822年世界第一台光刻机是，1822年法国人尼埃普斯发明的，起初是尼埃普斯发现了一种能够刻在油纸上的印痕，当其出现在了玻璃片上后，经过一段时间的暴晒，透光的部分就会变得很硬，但是在不透光的部分可以用松香和植物油。