1、并且台积电对于光刻机也是加大引进的力度，台积电方面表示，预计在2021年，台积电EUV光刻机要达到50台的数量，台积电这样做可能是为了让产能不那么紧张那么面对劲敌台积电的动作不断，三星显然是开始着急了，所以就连三星的董事；3纳米，是指节点技术的关键尺寸，而这个尺寸不是芯片能用肉眼看到的几何尺寸一般是毫米到厘米级别，而一般是指栅极长度gate length这个长度是又掩膜版上定义好的尺寸决定的，而在生产过程中决定性的由光刻机来实现；2022年2月7日根据查询道客巴巴官网显示，2022年2月7日，上海微电子正式交付了首台25D3D先进封装光刻机给客户。

2、不过新一代EUV光刻机还有点早，至少到2022年才能出货，大规模出货要到2024年甚至2025年，届时台积电三星等公司就可以考虑3nm以下的制程工艺了，所以说到2022年光刻机的精度有望达到3nm，要想达到1nm，估计要到2030年了；因为光刻机制造工艺不存在科学基础理论的限制，全部都是工程问题，而工程问题就是资源和时间投入够了，一定搞得出来连航发我们都快搞出来了，光刻机为什么搞不出来反过来说，过去我们造不出来，原因不是我们不能造，根源。

3、国产光刻机突破封锁，成功研制22nm光刻机，中国芯正在逐渐崛起高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有12亿美金一台的光刻。