但是限制华为的芯片供货，禁止台积电为华为代工，还有一只阻止中芯国际的EUV光刻机到货，主要指针对现在主流的7nm5nm工艺制程的高端芯片在光刻机领域我们确实是落后美国太多了，短时间想跟上谈何容易，是需要技术的积累的。

目前可以实现7nm 制程的只有台积电和三星两家，三星是从一开始就使用EUV光刻机来实现，而台积电则是从DUV开始实现，然后再转向EUV 也就是说，目前7nm 制程工艺使用DUV 和 EUV 都是可以实现的，下面就DUV 和 EUV 两种设备的实现方法分别。

Duv光刻机能生产最小线宽即最小特征尺寸的大小通常在100纳米左右，但是一些高端的Duv光刻机可以生产出更小的线宽，最小甚至可以到50纳米以下需要注意的是，不同的Duv光刻机的生产能力可能不同，而且制程技术和材料等。

荷兰ASML公司作为全球三大光刻机集成生产商之一，坚持不懈地进行技术创新以增强其竞争力，在全球光刻机销售市场上居于领先地位衡量光刻机最重要的指标，就是这台光刻机可以生产出来制程为多少nm的芯片，因为本质上说，制程越。

要看是90纳米制程还是90纳米的光刻机90纳米制程和现在主流7纳米相差太大不适合做手机芯片，因为手机芯片追求体积小巧和低功耗如果是90纳米光刻机并不是做出来的芯片就是90纳米，可以曝光3次达到14纳米级别但是7纳米。

同理就算中科院的论文讲的是5nm光刻机技术，想要完全实现商用不知道还要多久中国和荷兰ASML的差距最起码也在十年以上现在国内最好的光刻机生产企业应该是上海微电子，目前生产的最好光刻机也只是90nm的制程尽管有传言说。

现在美国不仅搞芯片禁运，还禁止中国获得高端光刻机，也就是EUV这里说明一下，中国并不是完全采购不到光刻机，只是采购不到可以用在7nm5nm制程上的光刻机，在中国能够量产的14nm上，中国要多少，阿斯麦就卖多少其实。

目前，我国芯片产业正面临两大难题，若是这两个难点能够攻克，自给率70%的目标将不是难题在接受证券日报采访时，千门资产投研总监宣继游表示，制程和光刻机部分工业软件部分，是当前制约我国半导体芯片发展的两大因素。

根据公告，阿斯麦上海是ASML Holding NV的附属公司之一而荷兰公司ASML是全球最大的光刻机制造商，光刻机是芯片制造所需的关键设备ASML在45nm以下制程的高端光刻机市场中占有85%的份额在EUV极紫外光刻机领域则。