1、而且据了解能够制造EUV光刻机的企业仅有ASML公司普及一下EUV光刻机的知识，EUV光刻机是生产5nm工艺及以下芯片的关键设备，如果没有它的话，是不可能制造出5nm工艺及以下的芯片的但是大部分的光刻机产能都被ASML背后的；极紫外光刻EUV使用波长更短的激光135nm，相对于深紫外光刻，需要重新研发刻蚀材料光刻胶刻蚀工艺等等，对精度的要求进一步提高，目前只有荷兰ASML一家公司能制造极紫外光刻机而且西方国家对我国的技术打压是；个精密零件组成，例如，德国蔡司的光学透镜和美国的激光发生器目前不能在中国制造为什么我们的光刻机很难突破。

2、国产光刻机90nm蚀刻机达到了5nm水平，光刻机仍然是处于90nm水平，2018年时中科院的“超分辨光刻装备研制”通过验收，它的光刻分辨力达到22nm，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10nm级别的芯片但是这仅限于实验室阶段；1光刻机可以分为用于生产芯片用于封装和用于LED制造按照光源和发展前后，依次可分为紫外光源UV深紫外光源DUV极紫外光源EUV，光源的波长影光刻机的工艺光刻机可分为接触式光刻直写式光刻投影式。

3、5nm高端刻蚀机刻蚀机在精密定位和环境控制等技术方面的要求较低，其技术要求和门槛也比光刻机更低不过它们皆为芯片制造环节中的重要设备，它们的发展无疑是我国半导体产业国产化水平的重要指标之一中微半导体生产的5nm蚀；5nm芯片无需光刻机中国科技公司已申请制造专利9月15日，一家中国科技公司申请的“5纳米芯片制造的直接蚀刻方法”专利正式公布该发明涉及芯片设计及制造这项发明的亮点在于，不用EUV光刻机或DUV光刻机，不需要光刻；对于国产光刻机落后的局面，我们必须抱以更大的耐心和信心一对于低端芯片用户而言，精度90nm的国产光刻机必须存在很多人说起芯片制程，言必2nm5nm7nm EUV，至于90nm制程工艺，认为根本没有存在的必要其实，这。