是国际公认的二纳米芯片制作领域关键技术芯片未来发展离不开高端光刻机 如今我国虽然能够独立将它研制出来，意味着我国在芯片领域生产中站于领先地位，但是当相关专家在将研究成果进行总结，并且在杂志上发表申请专利之后，中科院。

而且西方国家对我国的技术打压是非常狠的，比如2009年的时候，中国上海微电子研发出90纳米的光刻机，在2010年西方国家就解除了90纳米以上的光刻机对中国出口的限制，2015年又解除了65纳米光刻机对中国出口的限制，让中国的。

5nm激光光刻技术，预示着我们即将能取代ASML，但是5nm激光光刻技术还未安全成熟，因此还是要用ASML技术。

时间应该不会太久，加油自己，加油中国人目前我国能生产光刻机的企业有5家，最先进的是上海微电子装备有限公司，光刻机量产的芯片工艺是90纳米，目前正在向65纳米迈进，而国外最先进的是5纳米，正在向3纳米迈进，这中间。

相比之下，中国最好的光刻机厂商上海微电子装备有限公司SMEE已经量产的光刻机中，性能最好的SSA60020工艺只能达到90nm，相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准而国外的先进水平已经达到了7纳米，正因如此，国内晶圆厂所。

很多业内人士都不是特别看好，因为光刻机的原理虽然很多专家都懂，但制造工艺基本上都掌握在欧美发达国家手中而且用于处理器的光刻机对精度的要求非常高，因为它本身就是用来生产纳米级芯片的以荷兰的ASML光刻机为例。

如果中国以一国之力很快轻而易举的造出了光刻机5纳米2纳米，就会给人感觉特别强势，世界其它国家就会更害怕了，就会更快的形成围堵中国的外部环境，得给它们留下慢慢适应的时间，或者叫温水煮青蛙即使我们已经做出来。

目前世界上，在光刻机领域，最先进的当属荷兰的阿斯麦ASML公司，这个公司用了三十年的时间在光刻机领域建立起了极高的技术壁垒，在世界上是绝对的垄断地位，在45纳米以下的光刻机市场占有着百分之八十的份额，不是帮着。

据悉，国产的冰刻技术目前已可以在光纤末端制作微纳米冰雕，产能也十分可观如果这一技术正式投产使用的话，未来将有很大的可能完全取代“光刻机”大多数人可能会以为这个横空杀出的“国产技术”根基不稳，事实上，“冰刻。

公司瑞典与北京分别拥有 数台光刻机瑞典产线20172019年产能利用率一直保持在80%以上的高水平 5万业企业全资子公司凯世通采取“领先一步”的策略采用有国际竞争力的设 计理念，着力研制16纳米及以下制程的。