1、光刻机的基本原理是利用光源和光学系统将光束聚焦到特定的图案上，并通过光掩膜或掩模板上的图案形成光斑然后，光斑会通过投影或接触方式传输并照射到待加工的材料表面照射后，材料上的感光剂或光敏剂会发生化学或物理反应；1测量台曝光台是承载硅片的工作台2激光器也就是光源，光刻机核心设备之一3光束矫正器矫正光束入射方向，让激光束尽量平行4能量控制器控制最终照射到硅片上的能量，曝光不足或过足都会严重影响成像；euv光刻机原理是接近或接触式光刻通过无限靠近，复制掩模板上的图案直写式光刻是将光束聚焦为一点，通过运动工件台或镜头扫描实现任意图形加工投影式光刻因其高效率无损伤的优点，是集成电路主流光刻技术光刻机Mask；蚀刻机和光刻机其实就是完全不同的两种设备，不论从功能还是结构上来说都是天差地别，光刻机是整个芯片制造过程中最为核心的设备，芯片的制程是由光刻机决定的，而不是蚀刻机具体如下1工作原理 如果把制造芯片。

2、光刻机工作原理 光刻机的工作原理是通过一系列的光源能量形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图一般的；1光刻机制作芯片的过程，基本和“冲印照片”一样假设拍的是风景，胶片上会有曝光痕迹，先要在暗室里显影，让风景在胶片上显示出来然后在红光下通过放大机，把胶片上的风景投射到相纸上，让相纸曝光再通过相纸的显影。

3、用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口，本次厦门企业从荷兰进口的光刻机就是用于芯片生产的设备2工作原理在加工芯片的过程中，光刻机通过一系列的光源；1光刻机可以分为用于生产芯片用于封装和用于LED制造按照光源和发展前后，依次可分为紫外光源UV深紫外光源DUV极紫外光源EUV，光源的波长影光刻机的工艺光刻机可分为接触式光刻直写式光刻投影式。