1、对比之下，不得不说台积电的用电量真的很惊人，而这主要是因为EUV光刻机对电力的消费太大，此前SK海力士就曾表示“EUV光刻机的能源转换效率只有 002% 左右。

2、据了解，清华大学宣布路新春教授团队的新成果 由华海清科研发的首台12英寸超精密晶圆减薄机VersatileGP300量产出货，已经向国内某芯片制造龙头企业供货一条完整的芯片生产线需要100多种设备的同时协作，光刻机只是前道。

3、荷兰最终解禁，卖给中国的光刻机，但这个荷兰先进的光刻机并不代表中国芯片行业的腾飞中国芯片行业真正的救星，一定是中国自己特朗普离开白宫后，外国强加给中国的所有技术限制似乎都失败了就在上周，好消息来了，一直处。

4、一家名叫信阳的公司，来自上海，花费1亿元成功购买了三台ASML光刻机据悉，上海申阳此次购买的光刻机均为ASML1400型号该模型实际上不是ASML目前最先进流程的代表，只能用于生产55纳米芯片而且这三个光刻机也是二手的。

5、在完成设计后，需要将电路图转化为掩膜Mask，即用光刻机在硅片上形成微米级别的线路图案这一步通常由专门的半导体厂商完成3晶圆生产 然后，在掩膜制作完毕后，就可以开始晶圆生产了晶圆是一个直径约12英寸30。

6、第三，目前国产最先进的光刻机，应该是22nm根据媒体报道，在2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米请注意该报道的标题。

7、光刻机实现国产最大的意义就是解决了芯片问题中芯国际987%的芯片是28nm或更落后的制程贡献的，只要有28nm的光刻机，中芯国际可以用国产光刻机搞定987%的芯片，这就是最大的意义。

8、没有euv光刻机，也造不了3nm，国产芯片可以利用先进封装技术来提升芯片性能和降低成本没有EUV光刻机，并不意味着中国的芯片企业就无法实现3nm制程通过先进封装技术，中国的芯片企业可以利用现有的制程水平，实现更高的芯片。

9、国产光刻机90nm蚀刻机达到了5nm水平，光刻机仍然是处于90nm水平，2018年时中科院的“超分辨光刻装备研制”通过验收，它的光刻分辨力达到22nm，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10nm级别的芯片但是这仅限于实验室阶段。

10、中国光刻机现在达到了22纳米在上海微电子技术取得突破之前，我国国产的光刻机一直停留在只能制造90nm制程的芯片这次我国直接从90nm突破到了22nm也就意味着我国在光刻机制造的一些关键核心领域上已经实现了国产化而自己。