上海微电子目前已经量产最先进的SSA60020系列光刻机，依旧采用的是193nmArF光源技术，可用于低端的90nm芯片，更重要的是上海微电子的光刻机设备掌握着国内低端光刻机设备领域近80%市场份额而根据国内官方媒体最新报道，上。

我们都知道，联发科其实和华为一样，它只是一家芯片设计的公司，并没有相关制造的技术，此番联发科斥巨资购买光刻机等设备，就是为了提高自身在5nm工艺芯片的制造水平目前，全球主流的芯片厂商中，除了联发科基本都实现了5。

也就是相当于苹果iPhone55S的A6A7处理器水平，或者华为畅享67系列小米红米4系列综上所述，利用现代工艺，在使用90纳米光刻机的情况下，我们可以做出90纳米45纳米28纳米的手机芯片这几种芯片完全涵盖智能手机。

当然网上很多人对于“光刻机”的执念太深，其实还有很多环节是需要去解决的整个过程也不是嘴上吆喝几声就能实现的，未来确实有一段路要好好地走一走最后分享一句名人名言END。

可以的目前中国最牛的光刻机生产商就是上海微电子装备公司，他可以做到最精密的加工制程是90nm，这个就是相当于2004年最新款的intel奔腾四处理器的水平，但是相比较目前的7nm着实有些不够看。

放心，不出十年，我们就能造出高精度光刻机，不要把这种技术说的那么神乎其神，高不可攀跟强大的研发投入无关，asml是历史形成的，光刻机涉及的各方面技术基本是人类科技发展的极限和最新可应用成果，供给量非常有限。

中西 科技 竞争日益加剧，导致华为无法获得7nm5nm制程的芯片，国内芯片代工巨头中芯国际也被“断粮”，无法采购先进的EUV光刻机近期，美媒又传来消息，美国国会代表Michael Mccaul和参议员Tom Cotton向美国商务部提出了“。

工作在洁净厂房中截止目前为止，全球EUV光刻机的订单，英特尔有5台，带4台订单，台积电有5台，带2台订单，三星有3台，带3台订单，GF有1台，带1台订单，IMEC有2台，东芝与海力士各有1台及美光有1台订单。

这么一台设备除了价格昂贵零件繁多造型庞大等，耗电能力同样不容小觑当前ASML最新一代EUV光刻机的三相配套电压为208伏，直流电压为384伏，额定功耗是100万瓦约是前几代设备的10倍。

因为这个制作起来非常的困难，而且制作起来的时间也是非常的长。