下面来了解下国产光刻机和荷兰光刻机的差距一光刻机中国能造吗可以目前中国最牛的光刻机生产商就是上海微电子装备公司SMEE，它可以做到最精密的加工制程是90nm，相当于2004年最新款的intel奔腾四处理器的水平；上海微电子装备股份有限公司SMEE通过积极研发已实现 90nm 节点光刻机的量产，使用ArF光源，可满足90nm及以上制程国产光刻机正向下一个技术节点寻求突破4产业链 光刻机产业链主要包括上游核心组件及配套设备中游光。

从5nm一下子掉到180nm，这个落差让很多人都接受不了但需要知道的是，180nm才是国产光刻机技术的真实水平，就算不愿意承认，也必须得面对如果连自身的不足之处都无法面对，那么何谈攻克技术难题何谈突破毫无疑问。

国产14nm光刻机进展

1、但是，近几年我国的科学家和政府都在加大在光刻领域的研究，而且也取得了一些进展，也开始进行国产光刻机的制造但是尽管我们国家这么努力，但对比asml的光刻机技术，可以说我们连门槛都还没有摸到不过唯一值得庆幸的事是。

2、目前最先进的国产光刻机来自上海微电子，只能做到90nm制程，距离28nm以下的先进制程还很远光刻机的国产化是复杂的系统工程，其中光源是核心组件之一，其波长范围决定了光刻机的工艺能力，这正是此次拿到哈勃投资的科益虹源所。

3、8涂胶显影国产率1%，技术难度高，国产率很低，差距比较大9光刻机0%，虽然说目前国产光刻机国产化几乎为0，但是上海微电子已经能量产90nm工艺，28nm的光刻机已经取得进展但是光刻机是半导体产业链里技术最。

4、5nm激光光刻技术，预示着我们即将能取代ASML，但是5nm激光光刻技术还未安全成熟，因此还是要用ASML技术。

5、不要老是盯着光刻机，国产芯和美国芯的真正差距还是在专利和标准上！ 许多人认为中国的芯片制造工艺不行，的确目前国产的光刻机只能达到90nm的精确度，国内最好的芯片代工厂中芯国际的工艺水平也只在28nm14nm之间但是芯片厂商完全可以。

6、晶圆制造方面，中芯国际14nm制程工艺产品良率已追平台积电同等工艺，水准达约90%95%7nm工艺已经攻克并且进入了风险试产阶段，有望在6月份实现规模量产据悉国产DUV光刻机和28nm生产线会在2022年实现开始量产，届时我国的。

国产14nm光刻机什么时候量产

中芯的14nm已经非常成熟，年底就要试产7nm，和台积电基本上是2年左右的差距，接下来很尴尬的一点就是，中国目前没有EUV极紫外光刻机，无法量产5nm芯片最后就是芯片封装，形成了集成电路芯片之后，最后还要通过严格的测试。