而自己掌握核心技术有多重要自然不言而喻，在突破关键领域以后，更高阶的光刻机的研发速度只会越来越快国产光刻机突破封锁，成功研制22nm光刻机，中国芯正在逐渐崛起高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机。

并且卖给中国公司的稍过时的光刻机也有条款不准用于制造像龙心这类自主研发的CPU芯片美国日本在这个领域都力不从心，成都太给力了在技术方面，ASML光刻机可以使用波长为135纳米的极紫外光EUV，实现14纳米10纳米；我国目前连一台euv光刻机都没有，即使是图纸也没有EUV光刻机是半导体制造中的核心设备，它使用极紫外光技术进行微细加工，能够实现芯片制造的高精度和高速度然而，全球EUV光刻机市场一直被荷兰ASML公司垄断，而中国EUV光；面板等领域，2020年中国光刻机产量为62台，2021年国内产量为75台光刻机又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备，它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

可以的目前中国最牛的光刻机生产商就是上海微电子装备公司，他可以做到最精密的加工制程是90nm，这个就是相当于2004年最新款的intel奔腾四处理器的水平，但是相比较目前的7nm着实有些不够看；但国内市场上，其实已经有7nm光刻机在2018年12月，SK海力士无锡工厂进口了中国首台7nm光刻机海力士也是ASML的股东之一第三，目前国产最先进的光刻机，应该是22nm根据媒体报道，在2018年11月29日，国家重大科研装备。

国内唯一一台7nm光刻机在武汉弘芯中芯国际所采购的ASML光刻机设备，只能够实现14nm芯片量产，国内最先进的光刻机设备并不是中芯国际目前所使用的光刻机设备，而是武汉弘芯在2019年12月所购得的7nm光刻机，当时武汉弘。

中国有光刻机，位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售正在进行其他各系列产品的研发制作工作光刻机又名掩模对准曝光机曝光系统光刻系统等，是制造芯片的核心；全世界只有中国日本荷兰可以制造光刻机，日本的代表企业是尼康佳能，曾经的光刻机“王者”，后来被荷兰ASML反超后就一蹶不振了，而中国也可以制造光刻机，只是达不到顶尖光刻机的精细程度目前，荷兰ASML一家公司。