独立研发光刻机对我国意味着科技上打破西方国家的垄断，改变中国高新技术被国外封锁的局面，同时可以推动国家自主芯片的研发进展目前世界上光刻机研发，由荷兰美国日本这三个国家掌握技术，根本不会对外开放也不会对外公布；简单说世界上没有一家可以单独研制光刻机，需要多国合作才能制造光刻机，西方科学家说难度就在这里，他们都是手握特殊技术，有一家发难就很完成，要是咱们国家，一台光刻机技术都在中华大地开花，那该多好，一台光刻机是。

28纳米根据中国人民网显示，2023年中国已经成功研发出国产第一台28纳米nm光刻机，该光刻机预计在年底能够交付使用。

国产光刻机真实现状

总之，中科院的22纳米分辨率光刻机跟ASML垄断的光刻机不是一回事，说前者弯道超车，就好像说中国出了个竞走名将要超越博尔特显然，中科院研制成功的这台“超分辨光刻装备”并不能说明我国在市场主流的的光刻机研制方面已经。

国产光刻机研制进展

1、发光刻机研发涉及多个专业，光学机械加工电子电路化学等光刻机涉及到的知识有光学机械加工电子电路化学等多个学科知识光刻机的主要性能指标有支持基片的尺寸范围，分辨率对准精度曝光方式光源波长。

2、我国光刻机发展还是不错的2020年，“就算给你完整图纸，你也造不出来光刻机”2022年1月，“中国不太可能独立研制出顶级光刻技术，但也不是说绝对不行因为我知道物理定律在中国和这里是一样的，永远不要说永远。

3、鸿蒙将打造全场景分布式的云端存在，主要用于物联网不仅用于手机，平板，电脑和 汽车 等设备，而且可将所有设备串联在一起鸿蒙系统目前已经应用到华为云场景华为穿戴设备上，未来更是要应用到多场景终端设备上光刻机。