1、光刻机是芯片制造的关键设备，我国投入研发的公司有微电子装备集团股份，长春光机所，中国科学院等都在研发，合肥芯硕半导体有限公司，先腾光电科技有限公司，先腾光电科技有限公司， 合肥芯硕半导体有限公司都有研发以及制造。

2、对于光刻机技术来说，90纳米是一个技术台阶45纳米是一个技术台阶22纳米是一个技术台阶90 纳米的技术升级到65纳米不难，但是45纳米要比65纳米难多了路要一步一步走，中国16个重大专项中的02专项提出光刻机到2。

3、中国有自己的光刻机，由中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，这是世界上首台用紫外光实现了22nm分辨率的超分辨光刻装备，为纳米光学加工提供了全新的解决途径在光电所的努。

4、中国光刻机产品研究已经达到了“中端水平”国产DUV光刻机产品很快就能成批推出规模采用，据报道上海微电子研发出的28纳米国产光刻机整机已经安排生产，再过一两年一定能用于国产芯片的生产，而且，按中芯国际梁孟松在2020。

5、同理就算中科院的论文讲的是5nm光刻机技术，想要完全实现商用不知道还要多久中国和荷兰ASML的差距最起码也在十年以上现在国内最好的光刻机生产企业应该是上海微电子，目前生产的最好光刻机也只是90nm的制程尽管有传言说。

6、1国内光刻机需求高度依赖进口 光刻机又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备，也是光刻胶材料研发的重要设备由于光刻机是技术壁垒极高的产品，受技术限制，我国光刻机需求高度依赖进口，数据。

7、如今中国在光刻机这一领域依旧是很大的短板，这对我们研究芯片，半导体都有着很大的影响，因此如果芯片领域被西方国家制裁，那么中国的科技领域必将受到打击不过当前中芯国际经过资源和技术整合，将在下半年开出中国第一条14。

8、用来制造国防军事领域芯片的大尺寸中端光刻机，中国一直有，而且早就有 大家一定要搞明白这件事，和目前很多需要进口的零配件一样，中国不造，是基于市场考量，不是技术无法攻关很多中国没掌握的技术不是没能力，而是出。

9、虽然我国的光刻机技术还不是很成熟，但也是不可缺少的目前全世界光刻机最好的也只有荷兰的ASML公司能够制造出来，虽然我国的光刻机精度不是很高，但却是一个必须存在的东西如果按照目前的科技水平来看，90nm的精度并不。

10、290亿美元2021年中国向ASML公司进口了81台DUV光刻机和生产的新区，进口采购了290亿美元，所占市场份额仅为16%，光刻机是芯片制造的核心设备，也是研发难度最大的半导体设备。