中国和荷兰ASML的差距最起码也在十年以上现在国内最好的光刻机生产企业应该是上海微电子，目前生产的最好光刻机也只是90nm的制程尽管有传言说上海微电子明年将会推出28nm的全新光刻机，但是和ASML的EUV光刻机精度依旧相差。

说白了的opc技术性，实际上便是迅速电子光学邻近效应调整技术性，主要是用以提升显像品质，此次的提升，是完成90nm及其一下技术性连接点芯片生产制造的核心技术之一，促使国内光刻机再度迈入了提升除开中国科学院以外，华为。

最新消息显示，上海微电子装备计划于2021年交付首台国产28nm的immersion光刻机，即使这一技术的交付对比荷兰ASML公司全球最大的半导体设备制造商之一，光刻机制造领域全球领先有着近20年不足，但对于国内光刻机制造来讲，已经要跨出了很大。