荷兰的ASML是目前全球最顶尖的光刻机提供商，尤其是在高端光刻机领域，几乎占据了全球100%份额 一 最近几年，ASML销售业绩增速非常快 因为在高端光刻机拥有绝对的优势，所以asml的光刻机一直供不应求，最近2年时间虽然受到疫情的影。

EUV光刻技术是当前主流的先进制程技术，使用135nm分辨率的光可以构建更小的单位特征，但面临着成本高昂和物理极限等挑战与之相比，NIL光刻技术具有一些独特的优势，可以作为下一代光刻技术的候选者NIL光刻机相对于EUV光。

生产光刻机上市公司ABM上海微电子装备有限公司佳能尼康1ABM ABM公司成立于1986年，总部位于美国硅谷San Jose主要经营光罩对准曝光机光刻机，单独曝光系统，光强仪探针公司的主要市场在美国和亚洲ABM总部。

光刻机又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，有接触式曝光接近式曝光投影式曝光等光刻机光刻机怎么制造芯片下面来了解下一光刻机的种类有哪些1接触式曝光ContactPrinting掩膜板直接与光刻胶层。

1ASML荷兰ASML公司是全球领先的半导体设备制造商，提供了最先进的光刻曝光设备，EUV光刻机2Nikon日本尼康公司是半导体和显示器行业的重要设备供应商，光刻曝光机在市场上具有一定份额3Canon日本佳能公司也是在半。