该光刻机在365纳米光源波长下，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10nm级别的芯片 中国的刻蚀机的确是达到了世界先进水平，光刻机还早，而且就算是这两样都世界先进了，不代表中国芯片。

从鸿蒙的诞生到光刻机的布局，再到数字能源公司的成立，华为要实现核心技术的掌握，彻底冲出重围据企查查信息，6月7日，华为数字能源技术有限公司成立，法定代表人为胡厚昆，注册资本30亿人民币华为技术有限公司为唯一股东；是真的1查询昆山政府官网，2023年2月1日，我国首台国产光刻机正式在昆山交付成功，不是研发也不是实验，是正式交付使用，这意味着我国在光刻机的领域突破了0到1的关键阶段，所以昆山光刻机是真的2昆山一般指；2022年，ASML收到了供应商提供的第一个高数值孔径机械投影光学器件和照明器，这些模块将用于下一代EUV光刻机EXE5000的初始测试和集成ASML的最新技术规划显示，HighNA系统将在2023年底交付给客户，并用于大批量制造的全平台；28纳米根据中国人民网显示，2023年中国已经成功研发出国产第一台28纳米nm光刻机，该光刻机预计在年底能够交付使用。

印度没有光刻机技术印度没有光刻机，所以更没有排名全球只有四家公司能够制造光刻机，荷兰阿斯麦尔日本尼康和佳能，以及中国上海微电子印度不仅没有光刻机制造商，甚至没有严格意义上的芯片制造厂商倒是有不少；是的，华为已经研发出光刻机了华为和上海微电子共同研发的EUV光刻机预计将于今年年底之前验收，并在明年交付商用华为光刻机，是由华为技术有限公司研发的一种先进的光刻机，可以用来制作高精度的精细的图形和图标从。

光刻机的最新消息如下1上微中科院走ASML路线，全程规避美规采用1X千瓦60Khz的超高重复频率二氧化碳激光打靶2广智院与华中科技大学，采用分时高功率光纤激光器射击液态锡靶的方式绕开超高功率超高重复频率二氧化。

除了在核心问题上取得突破外，这段时间国产光刻机制造领域更是好消息频出前段时间上海微电子装备有限公司对外宣称，预计在2021年底或2022年初实现28纳米精度的光刻机的量产在国际方面，中国也着眼于国际光刻机制造领域，在力争跟紧国际研。