中国有光刻机，位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售正在进行其他各系列产品的研发制作工作光刻机又名掩模对准曝光机曝光系统光刻系统等，是制造芯片的核心。

日本代表的企业是佳能和尼康，中国的代表企业是上海微电子虽然我国目前只能制造出90纳米的光刻机，但是我国已经加大了科研投入和人才培养，相信在不久的将来，就能制造出属于自己的光刻机二光刻机的难度在哪里1光源。

目前全球只有四家能够制造光刻机的公司，分别是荷兰阿斯麦尔日本尼康和佳能中国上海微电子这里说的光刻机指的是euvduv浸润式光刻机所以说，国内仅有一家能够制造光刻机的公司，既上海微电子，所以上海微电子排名第。

全球绝大多数半导体生产厂商，都向ASML采购TWINSCAN机型，比如英特尔Intel三星Samsung海力士Hynix台积电TSMC中芯国际SMIC等位于中国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成。

因为这个制作起来非常的困难，而且制作起来的时间也是非常的长。

但是，这并不意味着我是一个悲观主义者，外国人卖给中国光刻机这件事情的确 可以看作是中国芯片行业的重大转折，只不过最重要的点，并不是在光刻机上，而是在卖上面我国现在其实已经可以制造激光刻机了，主要制造厂商不。

整个光刻机研发制造体系基本上就是科研机构浙大清华长春光机等专攻技术研发，然后再有专业厂商进行产业化 由此可见光刻机产业的体系庞大而又专业，华为虽然是国内第一 科技 企业，但显然无法面面俱到，什么都自己干！ 所以，华为无法。

位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售正在进行其他各系列产品的研发制作工作生产线和研发用的低端光刻机为接近接触式光刻机，分辨率通常在数微米以上主要有。

1965年中国科学院研制出65型接触式光刻机1970年代，中国科学院开始研制计算机辅助光刻掩模工艺1972年，武汉无线电元件三厂编写光刻掩模版的制造1977年，我国最早的光刻机GK3型半自动光刻机诞生，这是一台接触式。