在未来5到10年内，HighNA EUV光刻机将带领世界芯片工艺走上新的高度写到这里，作为中国人我们只能羡慕嫉妒的份了，不能怪荷兰的制造商阿斯麦，要怪就怪老美这个“大坏蛋”，我们还是继续努力吧ASML正在努力开发下一；在ASML公布的今年一季度财报中，EXE5200已经订出去不止一台按计划，第一台原型试做机2023年开放，预计由imec比利时微电子研究中心装机，2025年后量产，第一台预计交付Intel实际上，ASML的EUV光刻机非常庞大，现售的0。

新一代光刻机 上市公司

还需要攻克一系列的技术难题退一步讲，就算是中国的光刻机与刻蚀机都达到世界领先就解决问题了么ASML的EUV光刻机我们已经下单等待交货了，是不是到货以后中国就可以生产7nm甚至是5nm的芯片了不要把问题想简单了，以为芯片。

用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口在能够制造机器的这几家公司中，尤其以荷兰技术最为先进，价格也最为高昂光刻机的技术门槛极高，堪称人类智慧集大成的。

以此为基础，这些企业不断推出新一代的光刻机产品，实现了制程的突破其高分辨率高精度和高速度的特点，使得芯片制造变得更加精细化和高效化这种技术的突破不仅推动了半导体行业的发展，更为整个信息产业的进步打下了坚实。

2018年，中芯国际向荷兰ASML公司定制了一台7nm工艺的EUV光刻机，当时预交了12亿美元的定金请注意，当时这台机器还没有交付，而是下订单但国内市场上，其实已经有7nm光刻机在2018年12月，SK海力士无锡工厂进口了中。

芯片制造六大设备扩散炉刻蚀机离子注入设备薄膜沉积设备抛光机和清洗剂已经达到了世界主流水平，其中部分刻蚀机种类更是达到了5nm，处于世界第一梯队，最头疼的就要属光刻机了，中国光刻机的主要攻坚工作在上海微电子。

过去，中国的光刻机只能达到50纳米的生产精度，然而近年来，把握机遇，大力发展技术，中国光刻机顺利实现了25纳米和18纳米的生产精度，成功将产业链推向更高层面而如今光刻机打破7纳米这一生产极限，是产业竞争最新的战略。

中国新一代光刻机最新进展

中国有光刻机，位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售正在进行其他各系列产品的研发制作工作光刻机又名掩模对准曝光机曝光系统光刻系统等，是制造芯片的核心。

彭练矛说，目前中国芯片技术整体产业链面临着被“卡脖子”的状况，关键因素在于中国在芯片技术领域没有核心技术和自主研发能力，没有主导芯片从材料设计到生产制备的全套技术中任何一个环节相比传统的硅基技术，新一代的碳。