一百多立方米根据百度百科显示，一台光刻机体积非常大，大约为一百多立方米，与一辆公交汽车大小差不多光刻机，又称为掩模对准曝光机，是制造芯片的核心装备它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝。

一台小小的光刻机上面就有十几万的小零件，而且为了让光刻机可以领先，所有的零部件都是采用了全世界最领先的技术，所以说光刻机从插头配件等都是选用了其他国家的顶尖技术，这相当于全世界的技术融合在一起才可以制造。

光刻机制造中的微米级别的误差会严重影响芯片的制造，因此需要达到极高的精度要求例如ASML公司的最新款光刻机能够实现高达13纳米的精度，相当于人类头发丝直径的190研发成本巨大光刻机的研发成本非常高，需要投入。

第三，目前国产最先进的光刻机，应该是22nm根据媒体报道，在2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米请注意该报道的标题。

1985年，机电部45所研制出了分步光刻机样机，通过电子部技术鉴定，认为达到美国4800DSW的水平这应当是中国第一台分步投影式光刻机，中国在分步光刻机上与国外的差距不超过7年但是很可惜，光刻机研发至此为止，中国开始。

由于CPUGPU手机SOC芯片和DRAM芯片的尺寸千差万别，所以只能说一个大概数300左右现在回到正题ASML一台7纳米光刻机每月制造多少片die前面网友说的“日产500到600片晶圆”，错误有俩，首先“日产X片晶圆”应是“日。

90纳米封装光刻机在国内市场已占据不小的份额，这是国产光刻机取得的进步然而在代表着光刻机技术水平的晶圆制造光刻机方面，上海微装可生产加工90nm工艺制程的光刻机，这是国产光刻机最高水平，而ASML如今已量产7nm。

我们日常使用的手机里面的芯片就是光刻机制造出来的，光刻机是芯片制造过程当中一个重要的环节，光刻机直接决定着芯片的质量而我国作为全球最大的芯片消费国之一，光每年进口的芯片都高达几万亿人民币光刻机是芯片制造。