最后，我国的光刻机技术刚起步，仍然面临着许多难题需要攻克从目前我国在相关行业发展历史分析，只有上海微电子装备和合肥芯硕半导体有限公司在研究光刻机方面取得了一定的进步并且从目前来看，上海微电子装备已经能够研发出90。

例如光刻机中的光学镜头由德国Carl Zeiss提供，光源由美国的Cymer提供，不可能任何部件都实现自行研发国内并非没有光刻机的生产企业，比较有名的就是上海微电子装备集团股份有限公司SMEE这家公司成立于2002年3月。

中国光刻机现在达到了22纳米在上海微电子技术取得突破之前，我国国产的光刻机一直停留在只能制造90nm制程的芯片这次我国直接从90nm突破到了22nm也就意味着我国在光刻机制造的一些关键核心领域上已经实现了国产化而自己。