ASML公司是全球领先的EUV光刻机制造商之一，其制造的EUV光刻机可以实现5nm芯片的制造这些设备由于技术领先，因此价格不菲，约为1亿美元，但它们是制造高效，高质量芯片的必要条件5 EUV光刻机的发展前景 EUV光刻机具有；但是事实却并非如此，据后来该论文的通讯作者刘前在接受媒体采访时表示，中科院研究的5nm光刻制备技术针对的是光掩膜的生产，而不是光刻机用到的极紫外光也就是说，中科院发表论文不等同于国产光刻机技术达到了5nm水平。

能造光刻机的国家有荷兰日本美国韩国中国1荷兰 荷兰是高端光刻机生产的领导者，该国ASML是全球最大的光刻机制造商，其高端市场份额占比超过80%ASML的EUV光刻机是当今最先进的光刻机之一，主要应用于全；国产光刻机90nm蚀刻机达到了5nm水平，光刻机仍然是处于90nm水平，2018年时中科院的“超分辨光刻装备研制”通过验收，它的光刻分辨力达到22nm，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10nm级别的芯片但是这仅限于实验室阶段；EUV光刻机主要由三个部分组成EUV光源，光刻镜头和控制系统这三个部分都是EUV技术成功实现的关键21 EUV光源 EUV光源是EUV技术的核心之一，它发射的波长为135纳米的光束目前，开发出能够持续发射这种波长的光源并不；5nm光刻机的原意应该是可以实现5纳米制程的光刻机，是EUV极紫外线光刻机EUV使用了135纳米的极紫外线激光源，比193纳米深紫外线光源的DUV光刻机能力更强纳米符号nm，即为毫微米，是长度度量单位1纳米=10的；国产光刻机可以达到55纳米目前国产光刻机最先进的设备在分辨率上达到了55nm，由于ArFDry光刻机的极限工艺为55nm，因此国产光刻机最多只能够支撑55nm工艺，无法实现更高的工艺水平虽然目前国内光刻机的分辨率和工艺水平还；五纳米芯片不需要光刻机是真的佳能公司宣布通过NIL纳米压印技术，将在2025年实现制造5nm芯片而不需要EUV光刻机的使用NIL纳米压印技术类似于印刷技术，通过将电路图案刻录到专用的quot章子quot上，然后将quot章子quot压印到硅晶圆上。

ASML是全球最大的半导体材料及设备供应商之一，也是全球最具影响力的5nm光刻机技术提供商之一ASML的5nm光刻机技术在业内首屈一指，被世界500强的芯片制造商广泛采用4 ASML的5nm光刻机技术优势 ASML的5nm光刻机；凭借着这三项关键性的光刻专利，国产光刻机落地之时，我们将有十足的底气与ASML进行专利交叉授权使用，从而彻底避免卡脖子问题在科研机构的技术支持下，国产光刻机已开启了加速模式，除了以上专利之外，国产光刻企业也取得了。