1、在完成设计后，需要将电路图转化为掩膜Mask，即用光刻机在硅片上形成微米级别的线路图案这一步通常由专门的半导体厂商完成3晶圆生产 然后，在掩膜制作完毕后，就可以开始晶圆生产了晶圆是一个直径约12英寸30。

2、大家都了解，现阶段在芯片行业的有关技术上，我们国家就是卡在了那一台顶尖的光刻机设备上，欧美国家对于该设备的技术一直都是防备有加，现阶段都还没哪一个国家可以独自造出光刻机，表面上是由荷兰的ASML企业生产制造的；但是，随着国内技术的不断进步和政策支持的加强，光刻机国产化发展前景逐渐明朗目前，国内已经有一批企业开始进军光刻机领域，包括上海微电子华光光电晶合集成等这些企业已经在一些特定领域取得了突破性进展，例如华光光电；中科院5nm的光刻技术和光刻机关系不大其实“中科院5nm激光光刻技术突破”的新闻来源是在中科院网站上的一篇论文，文章的主要内容其实是讲微纳加工领域里的一个进展，中心思想是超高精度的无掩模的激光直接刻写由于文章中。

3、中国在光刻机领域的发展虽然起步较晚，但通过政府的支持企业的创新和科研机构的努力，已经在该领域取得了一些重要的突破和进展未来，随着技术的不断进步和市场的不断扩大，相信中国在光刻机领域的实力将会越来越强大光；1月19日，晶瑞股份发布了“关于购买光刻机设备进展情况的公告”公告表示，公司顺利购得ASML XT 1900 Gi型光刻机一台采购的光刻机设备为ASML XT 1900 Gi型ArF浸入式光刻机，可用于研发最高分辨率达28nm的高端光刻胶。

4、进展国产刻蚀机打入全球芯片先进制程产业链光刻机是芯片制造过程中最复杂和最关键的设备，EUV技术阶段设备要求更高这方面国产光刻机与国际大厂还有显著的差距22nm光刻工艺2018年11月，中科院光电所经过7年研发，成功验收；9光刻机0%，虽然说目前国产光刻机国产化几乎为0，但是上海微电子已经能量产90nm工艺，28nm的光刻机已经取得进展但是光刻机是半导体产业链里技术最难的设备，而要达到7nm工艺制程，必须用到EUV光刻机，以目前中国。