独立研发光刻机对我国意味着科技上打破西方国家的垄断，改变中国高新技术被国外封锁的局面，同时可以推动国家自主芯片的研发进展目前世界上光刻机研发，由荷兰美国日本这三个国家掌握...

1、在完成设计后，需要将电路图转化为掩膜Mask，即用光刻机在硅片上形成微米级别的线路图案这一步通常由专门的半导体厂商完成3晶圆生产 然后，在掩膜制作完毕后，就可以开始晶...