smee光刻机22纳米光刻机lithography又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上2018年11月29日，国家重大科研装备。

1我国的光刻机 ASML的高端光刻机为7nm光刻机，并且7nm EUV光刻机只有ASML可以生产，据说ASML已经准备生产5nm的光刻机 上海微电子SMEE的光刻机为90nm制程 ，差距还是有些远的正是上海微电子90nm制程的光刻机下线之后，ASML。

smee光刻机28纳米据媒体报道，上海微电子装备SMEE股份有限公司创新技术，在之前90nm的基础上，宣布在2021年至2022年交付国产第一台28nm的immersion式光刻机虽然与当前主流荷兰的7nm芯片制备工艺还有大的差距，但也标志。

smee光刻机是同兴达公司的2月1日，昆山同兴达首台SMEE光刻机顺利搬入仪式落幕昆山同兴达公司成立于2021年12月，主营半导体芯片先进封装测试相关之生产销售及服务，是同兴达集团最年轻的子公司集团产业新赛道公司将。

二国产光刻机和荷兰光刻机的差距在哪里中国的光刻技术和荷兰ASML的EUV光刻技术，关键点的区别在于采用紫外光源的不同和光源能量控制1紫外光源的不同中国光刻技术采用193nm深紫外光源，荷兰ASML的EUV采用135nm极紫外。