1、因此， 除了撕胶带法和光刻技术，我们还需要寻找另外一种制造具备神奇特性新材料的方向 “ 比如直接操纵原子得到所需的新结构材质” 02 实际上，我们对单个原子的操纵早就实现了1989年9月28日，IBM阿尔马登研究中心的物理科学；光刻机，荷兰的最牛 已赞过 已踩过lt 你对这个回答的评价是？ 评论 收起 1条折叠回答 其他类似问题20180124 CPU是怎么制作出来的？ 3 20170203 电脑CPU是怎么制造出来的 32 20101221 电脑CPU是如何生产的？ 36。

2、光刻机的种类有哪些光刻机又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，有接触式曝光接近式曝光投影式曝光等光刻机光刻机怎么制造芯片下面来了解下一光刻机的种类有哪些1接触式曝光ContactPrinting；华为芯片都已经在生产了，光刻机肯定是有了这不过这个光刻机跟你想象的可能并不同 我们知道，两年前，美国开始制裁华为 那会华为的海思麒麟芯片是在ARM架构公版的基础上自己设计的华为只做芯片设计，芯片生产由别人代工在被制；最后只需调整混合气体的种类和比例就能获得满足雕刻不同芯片的光线，所以又有了氩氖混合气氩氖混合气和氪氖混合气等不同的氖气组合，氖气几乎成了组合中的必用品我国曾花费巨资从荷兰购入光刻机，大名鼎鼎的DUV深紫外光；至于技术方面，我国早就已经解决了原子弹制造中最重要的铀提取技术以及离心技术，而芯片制造中最重要的技术目前我国没解决，即在载体上面刻集成电路这需要光刻机，然而目前光刻机被荷兰一家企业垄断，全球所有的高端光刻机。

3、就以光刻机为例，纵然是技术强大如美国，也不能独立制造出光刻机他们也需要从德国日本瑞典等国的手中购买镜头光学器材轴承等材料很多朋友希望我们能够从IC产业链的各个环节都实现替代，从而造出100%国产化的；后来尼康不断推出照相机，在世界影响领域创造了持久的辉煌，除了在照相机领域外，尼康在显微镜领域也占有重要地位，更值得尼康引以自豪的是其在光刻机领域1976 年，尼康开始进行半导体刻制机的开发1978 年尼康的第一台半导体刻写系统 SR。

4、光刻机的种类有如下1接触式曝光机 接触式曝光机指的是掩膜板直接与光刻胶层接触，曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当的设备根据施加力量的方式不同，接触式曝光又分为软接触硬接触和真空接触2接近式。