官网显示，目前最先进的光刻机是600系列，光刻机中最高的生产工艺可以达到90nm然而，与荷兰ASML公司拥有的EUV掩模对准器相比，它可以通过高达5纳米的工艺制造而且3nm工艺制作的芯片即将上市不过根据相关信息，预计中国首。

说到这里，国产90nm光刻机的战略意义就展现出来了虽然它是低端光刻机，但打破西方技术封锁，可以保证绝大多数国产芯片制造厂不被ldquo卡脖子rdquo，国产的wifi芯片蓝牙芯片电源管理芯片显示芯片单片机低容量。